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진공 열처리로 (JETFIRST)
모델명
RTP JetFirst Series
시리즈
진공 열처리로
자료
Catalog-Ecm technologies-Vacuum furnaces (jetfirst)
구매정보
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ECM TECHNOLOGIES

공업로 제작업체, ICBP, 진공 열처리로, 용융 열처리로와 인덕션, 광전지 열처리로 & 결정성장 설비, 중착 용광로 등

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제조사
ECM TECHNOLOGIES[바로가기]
브랜드
-
SKU
131164
제품명
진공 열처리로 (JETFIRST)
모델명
RTP JetFirst Series
사이즈
-
중량
-
제품 상세 정보

LAMP FURNACE - RAPID THERMAL PROCESSING

rtp rta furnace

The ECM JetFirst system is a compact and robust lamp furnace suitable for the Rapid Thermal Annealig (RTA) of a wide range of material substrates and structures (Electronic Grade Si, steel glass, SoG c-Si, III-V, II-VI, Germanium, quartz, ceramics etc.) with a size from 100mm up to 300mm diameter.

This lamp furnace is equipped with a metallic water cooled reactor chamber and has therefore an ultra-low memory effect.

 

PLUS AND BENEFITS

The JetFirst system is a lamp furnace that has been developed to meet the requirements of universities and research laboratories. The temperature measurement control system provides accurate and repeatable thermal control across the temperature range. The lamp array, upper flange, and quartz window are mounted in a rotating top lid, giving full access to the chamber for easy loading and unloading of the wafer.

Silicon carbide coated graphite susceptors are available for the processing of various small samples and compound semi materials. A spare process chamber can be provided upon request to avoid cross contamination if several processes have to be performed in the same reactor. The high reliability and high performance characteristics of the JetFirst enable small-scale production.

The process can take place at atmospheric pressure or under vacuum. A PID system provides accurate and repeatable thermal control across the temperature range. RTP Process control is via computer, running PIMS dedicated supervisor that enables recipe programming and monitoring of the entire RTP system.

 

POSSIBLE APPLICATIONS

  • Rapid thermal annealing (RTA)
  • Rapid thermal oxidation (RTO)
  • Rapid thermal nitridation (RTN)
  • Rapid thermal diffusion (RTD)
  • Crystallization, carbonization
  • Contact alloying
  • Selenization (with optional hardware)

 

EFFECTIVE DIMENSIONS
JETFIRST

  • 100mm
  • 200mm
  • 300mm

 

OPTIONS

  • Primary vacuum pump
  • Secondary vacuum pump
  • Process gas line
  • Susceptor
  • High temperature version
  • Spare chamber
  • Hydrogen configuration
ECM TECHNOLOGIES
공업로 제작업체, ICBP, 진공 열처리로, 용융 열처리로와 인덕션, 광전지 열처리로 & 결정성장 설비, 중착 용광로 등
우리의 역사 ECM은 큰 부가가치를 창출하는 열처리 산업로의 제공과 서비스에서 세계적인 선도역할을 하고 있습니다. 1928년 창업하였으며, ECM은 세계적으로 기술혁신,공정적용,문제해결에 있어서 알려졌습니다. 우리의 진공으로는 50년 이상 개발되었으며, 세계적으로 수천 기가 공급되는데 이바지하였습니다: ICBP® 설치,진공로,가열로,침착변성로,태양전지및 크리스탈 육성으로 및 맟춤제작형로. 일체의 기술설계와 제작은 본사가 소재하고 있는 프랑스의 그레노블에서 일어납니다: 사무실 면적은 1 200 m² 이고, 작업장은 8 000 m² 이며, 개발실 체제와 실험실은 재료기술을 지원하고 있습니다.모든 과정은 내부적으로 통달 되었습니다. ECM 공법으로 세계적으로 75%의 진공 침탄로의 실적을 보여주고 있습니다. (진공으로는 heat treating 셀 s / 297 진공으로는® 설치). 공동의 사회적인 책임감,가치,모든 이의 협조와 헌신으로 ECM은 고객들에게 타당하고 편리한 기술을 창조합니다. 관련된 품질과 지속적인 개선이 진공으로는 기반입니다.우리의 강력한 능력은 450명의 협력자(사원)와 15곳의 국제적인 지사 망으로 증명됩니다(중국,인도,미국,독일,등) 우리의 임무 고객의 제조원가 절감 및 제품이 성능향상 ECM Group은 고객의 제조원가를 절감하기 위한 서비스,공정및 설치를 제공하며,제품의 성능도 향상합니다.우리는 진공과 열화학 공정의 심오한 지식으로 모든 산업분야의 요구를 충족시키고 있습니다.(자동차, 항공,태양공,원자력)  
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