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N₂ 발생장치

모델명

시리즈

PSA시스템


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제품 상세 설명

(주)지에스에이 N₂ 발생장치 N2-PSA 1

산소의 분자경은 질소보다 작기 때문에, CMS(Carbon Molecular Sieve)의 미세공에 가장 빨리 확산되어 흡착됩니다.  또한 공기 중의 수분 및 탄산가스도 산소와 마찬가지로 흡착됩니다.또한 공기 중의 수분 및 탄산가스도 산소와 마찬가지로 흡착됩니다.  상기 그림은 질소와 산소의 흡착평균량에 대한 흡착량의 배합 즉, 흡착속도와 흡착시간과의 관계를 나타낸 것으로, 산소가 질소에 비해 흡착속도가 훨씬 빠른 것을 알 수 있습니다.   질소가스 발생장치는 이와 같은 CMS(Carbon Molecular Sieve)의 특성을 이용한 방법을 채택하고 있습니다.



1. 자사에서 질소가스를 저렴하게 제조할 수 있습니다.

2. 대형에서 소형까지 많은 실적이 있습니다.

3. 요구에 맞는 대응이 가능합니다.

     저농도에서 고농도까지 희망하시는 N2-PSA 를 제작해 드립니다.

4. 사용 조건에 맞는 자동운전이 가능합니다.




1.비활성가스 차폐(Seal)
  폭발성, 인화성 물질의 차폐 및 운송용

2.배기
   탱크, 파이프 등의 배기용

3. 열처리
    광휘담금질, 광휘풀림, 침탄, 질화, 뜨임 등의 분위기 가스용

4. 분위기 조정
    타이어 가류장치용, 식용유등의 산화방지용 및 CA저장용

5. 식품 포장
    차/인스턴트 커피/과자 등의 식품 품질 열화방지용

6.반도체 및 전자부품 등의 제조용

7.리플로우 로(爐)용




공기압축기로 약 0.69MPaG로 압축된 공기는 흡착조의 하부로 도입됩니다. 이 흡착조에서 산소, 탄산가스, 수분이 흡착 제거되어 제품인 질소가스가 상분에서 나옵니다. 흡착조 안의 CMS에 흡착된 산소, 탄산가스, 수분은 대기압하에서 탈착됩니다. 이 가압/감압의 공정을 2탑교체방식으로 행하여 고순도 질소가스를 발생시킵니다.




능   력 : 2,000m³/h(nor.) N₂99%

순   도 : 95~99.999% (N2+Ar)

옵션에 따라 O₂ : 10ppm이하로도 제작 가능합니다.

수   분 : 이슬점 -60ºC at 1atm

자료 다운로드

GSA-Leaflet-(N2)KO(최종)

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