초순수 제조장치 이해
초순수란 일반적으로 Resistivity 10~ 18.3㏁/cm2까지의 순수를 말합니다. 이 초순수 (Ulfra pure water) 는 원자의 결합측정연구(Enzine Studies ) 및 유전공학 연구등의 기초과학 분야는 물론 반도체(Semiconductor.) ,화학( Chemical) 을 비롯 한 High Technology 산업에 이르기 까지 광범위한 분야에 걸쳐 핵심적인 재료로 사용된다. 따라서 정교한 System 에 의해 민감한 변화를 가져올 수 있으므로 이의 저장 또한 많은 주의가 요구된다.
초순수의 규격
| Resistivity | 18.3㏁/cm2 |
| Total Orgenec Carbon | ≤ 10 ppb |
| Particle-free | ≥ 0.22㎛ |
| Total Disolved Solids | 20 ppb |
| Silicates | < 0.1 ppb |
| Heavy Metals | < 1 ppb |
| Microorganisms | ≤ 1 cfu/㎖ |
| Pyrogens | Negative |
초순수장치의 구성방법
이 장치는 구성하는 요소는 2가지 형태로 분류할 수 있다.
1) 역삼투압장치 + 혼상식장치+ 폴리샤(혼합수지)
2) 역삼투압장치 + EDI 시스템 + 폴리샤(혼합수지)
1번의 구성방법은 분리막을 통해서 무기물, 유기물등을 제거한 후 혼상식 수지탑을 통과된 물이 최종 폴리샤를 통하여 초순수를 얻는 방식으로서 비교적 사용물량이 많은곳에 사용하며 혼상식은 재생을 하는 형태이기 때문에 일정한 폐수가 발생이 된다.
2번의 구성방식은 분리막을 통해서 무기물, 유기물등을 제거한 후 EDI 시스템을 통해서 통과된 물이 최종 초순수를 얻는 방식으로서 재생을 하지 않아도 되고 연속적으로 사용할 수 있기 때문에 신뢰도가 높고 관리와 운영이 편리하다. 현재로서는 설치 투자비용이 많이 드는 게 단점이지만, 소용량에서 부터 사용이 점차적으로 확대되어 신규설치시 대부분이 적용하고 있는 형태이다.
상기 2가지 형태를 사용시 초순수의 원칙인 고순도를 지속적이며 안정적으로 얻을 수가 있다. 정재된 순수는 ACS (미국화학회), ASTM ( 미국 시험연구규칙)에서 규정한 TYPE Ⅱ(분석급순수) TYPE Ⅲ (실험실용순수) 의 규격을 기준으로 하여 실험결과를 만족하고 있다.
EDI의 원리및 이해
EDI 란?
ED는 순수 및 초순수 제조용 전기 탈이온 장치로서 전기투석 장치의 희석실에 이온교환수지를 충진시킨 것입니다. 반응속도와 전력소모에서 전기 투석법보다 우수하기 때문에 낮은 전해질을 가진 수처리에 다양하게 응용되고 있습니다. 주로 전자 및 반도체회사의 초순수 생산설비에 적용되어온 전기 탈이온 법은 기존의 이온 교환 수지를 사용하는 데미 시스템(DEMI.SYSTEM) 과 달리 전기적으로 이온을 제거하기 때문에 재생을 위하여 약품을 사용하지 않으며 이에 따른 재생폐액이 생성되지 않아 환경친화적인 설비입니다.
EDI장치는 이온교환막, 이온교환수지 그리고 전기를 이용하여 고순도의 물을 생산해내는 직류 전원은 시스템에 공급되는 액으로부터 이온을 제거하기 위한 구동력이며, 이때 이온교환으로 재생됩니다. 이 장치는 Single-Stage System 으로 전도도 1000㎲/cm2의 공급액에서부터 제거할 수 있고, 100㎲/cm2의 공급액에서는 99%이상의 이온을 제거할 수 있습니다. 전도도인 RO 처리수를 공급액으로 사용하면 18㏁/cm2까지 도달할 수 있다.
적용처
- 실험실 용수,정밀화학공업
- 의약품 공업, 제약, 의료분야, 도금공업
- 도료공업, 반도체관련산업, 초음파세척
- 화학공업, 잉크제조공업
- 멀티인쇄회로기판 세정수
- 컴퓨터자기디스크 세정용수
- 액적용 기판 세정수