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Excimer laser annealing system
모델명
LPA-EXA100
자료
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구매정보
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레이저앤피직스

레이저 모듈제조업체, Eximer Laser, Semi Conductor, Display, PCB, EMC

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0503-5304-1099
이메일
laser@laser-physics.co.kr
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제조사
레이저앤피직스[바로가기]
브랜드
-
SKU
126988
제품명
Excimer laser annealing system
모델명
LPA-EXA100
사이즈
-
중량
-
제품 상세 정보

Products Detail

Excimer laser annealing system



Products Introduction

Model   LPA-EXA100
Laser type    XeCl
Wave Length    308 mm
Pulse repetion rate   < 30 Hz
Average energy   < 500mJ
Power stability   5 %
Warming up   30 min.
Gas lifetime   20 x 10e6 pulses
Beam dimension  10 x 20 ㎟
Beam divergence   3 x 10 mrad
Laser tube lifetime   1 I 109 pulses
Cooling    Water

- Amorphous silicon annealing system by excimer laser

- Amorphous silicon is changed to polycrystalline sillicon after melting in a moment during being irradiated by XeCl excimer laser.

- TFT LCD annealing process


레이저앤피직스
레이저 모듈제조업체, Eximer Laser, Semi Conductor, Display, PCB, EMC
본인은 정부 출연 연구소에서 광 관련 기초 연구를 십여년간 수행 하였으며, 많은 연구 과제 중 광통신소자 개발과 TW급 레이저가 특히 제 기억에 남습니다.   연구원마다 추구하는 바가 다르겠지만, 본인은 대학이나 연구소에서 이루어지고 있는 연구가 우리나라 산업 전반에 이전 되어 국가 경쟁력에 기여하고, 다시 그 이익이 연구에 되돌아 와서 기술 개발을 부추기는 순환 작용이 이루어지지 못하는 것을 안타까워하였습니다. 물론 기초적인 연구는 이러한 순환 관계에서 예외가 될 수도 있을 것입니다.   이제 우리나라도 인류의 지적 호기심을 충족시키기 위한 투자를 할 만큼 성장했다고 보며, 그러한 연구를 선진국에만 기대는 것도 후손들에게 부끄러운 일일 것입니다.   그러나 너무 많은 연구원들이 이런 순환 작용에서 예외로 봐 달라고 하는데 문제가 있었습니다.   기업체는 회사의 발전을 위해 앞선 연구가 필요한데 대학이나 연구소에서는 그러한 것을 내놓지 못하고 있었습니다. 심지어는 대학이나 정부 출연 연구소에서 행해지는 연구가 기업체 연구소보다 늦고 기술도 떨어진다는 것에 실망하기도 하였습니다.   연구원들이 개인의 지적 호기심만 충족시킬 뿐 진보하고 있는 기술을 바로 보지 못하였다는 것입니다.   그렇게 되니 기술 발전의 순환 작용은 악순환을 하게 되어 국산 기술은 점차 벼랑으로 몰리게 되었습니다. 이제 허울 뿐인 국산 제품의 속을 채우는 일은 연구원들이 직접 나서는 것이라고 봅니다. 국산이니 써달라거나 외면해서도 안 될 것 입니다. 그러면 세계 시장은 머리 있게 됩니다.   국내에도 기술로 기억할 만한 기업이 있다고 인정받도록 노력 할 것입니다.
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