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진공 부품 및 Sputtering용 Alloy Target
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진공 부품 및 Sputtering용 Alloy Target
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(주)셀코스

반도체, 전자부품 생산, 태양전지, 유기EL, 디스플레이

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제조사
(주)셀코스[바로가기]
브랜드
-
SKU
40992
제품명
진공 부품 및 Sputtering용 Alloy Target
모델명
-
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중량
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제품 상세 정보

▷ 자체 제작품인 효율적이고 신뢰성 높은 Sputtering용 Cathode 및 Alloy Target, 유/무기 증착원 및 관련 부품을 공급.

Sputtering Cathode

- Type : Planar, Round, Hexagon, Cylindrical type magnetron gun
- Size : up to 2,000mm
- Target Material : Metal, Oxide, TCO.

Sputtering Target

- Target Material : Metal (Silver, Gold, Titan Color용)

Evaporation Source

- Type : Point cell, Linear cell
- Volume : Host and Dopant (from 3cc ~ )
- Material : Organic and Inorganic material

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