product Image
product Image
product Image
진공 부품 및 Sputtering용 Alloy Target
모델명
-
시리즈
진공 부품 및 Sputtering용 Alloy Target
전체보기
자료
-
구매정보
provider logo
(주)셀코스

반도체, 전자부품 생산, 태양전지, 유기EL, 디스플레이

연락처
070-4311-8000
이메일
selcos@selcos.co.kr
상품정보에 문제가 있나요?
정보수정 / 삭제요청
코머신은 제품 판매의 당사자가 아닙니다.
법적고지 및 안내
제조사
(주)셀코스[바로가기]
브랜드
-
SKU
40992
제품명
진공 부품 및 Sputtering용 Alloy Target
모델명
-
사이즈
-
중량
-
제품 상세 정보

▷ 자체 제작품인 효율적이고 신뢰성 높은 Sputtering용 Cathode 및 Alloy Target, 유/무기 증착원 및 관련 부품을 공급.

Sputtering Cathode

- Type : Planar, Round, Hexagon, Cylindrical type magnetron gun
- Size : up to 2,000mm
- Target Material : Metal, Oxide, TCO.

Sputtering Target

- Target Material : Metal (Silver, Gold, Titan Color용)

Evaporation Source

- Type : Point cell, Linear cell
- Volume : Host and Dopant (from 3cc ~ )
- Material : Organic and Inorganic material

이 기업의 다른 제품
(주)셀코스
반도체, 전자부품 생산, 태양전지, 유기EL, 디스플레이
(주)셀코스는 고진공 기술과 나노 박막 공정기술을 기반으로,     - 디스플레이 및 산업용 박막 증착을 위한 Sputtering 시스템     - OLED Panel 및 재료개발용 유/무기 증착 시스템      - 대면적 진공 물류 시스템     - 나노 박막 코팅 공정개발 서비스 및 Sputtering용 Alloy Target 을 경쟁력 있는 제품으로 공급하고 있습니다. (주)고객에게 겸손한 SELCOS, 고객이 신뢰하는 SELCOS, 고객과 함께 열정을 갖고 성장하는 SELCOS가 되기 위하여 노력하겠습니다. 
문의하기