끊임없는 R&D를 통한 혁신적인 Plasma 원천기술의 확보 세계 최고 장비 부품회사로의 도약 윈텔 코퍼레이션의 목표이자, 가장 큰 가치 입니다.

당사는 반도체 생산공정의 핵심 분야 전 공정의 장비군 CVD, ALD, ETCHER등의 기술이 해외의 기술에 의존하는 것을 넘어서고, 점점 더 초미세화되고 집약되는 반도체 장비 기술을 국산화 기술로써 극복하고자 2011년 한국과학기술원(KAIST)와 함께 기술 협약을 맺고 헬리콘 플라즈마를 이용한 반도체 핵심 장비인 ALD, CVD, ETCHER, CLEANING 장비 기술을 개발해 왔습니다.

플라즈마 공정 전문가인 연구원들과 함께 오랜 시간 개발에 매진하면서 국내 유수의 소자업체로부터 그 기술력을 인정받기 시작하고 그 결실이 다가오고 있습니다. 당사는 단순히 해외의 기술을 대체하는 것이 아니라, 해외의 선진 기술보다도 한 발 더 앞서거나 그동안 세상에 없었던 기술을 개발하여 경쟁이 심화하는 반도체 시장에서 고객사의 생산 경쟁력을 확보할 수 있도록 역할을 하고자 합니다.

특히 반도체 전 공정 기술에서의 연구개발은 첨예한 세계의 기술 경쟁에서 살아남기 위해서는 무한한 기술 경쟁은 물론이고 끊임없는 지구력과 인내도 필요합니다. 당사는 앞으로도 연구개발이 우리 회사를 지탱하는 핵심이라고 생각하고 여러 개발 경험을 갖춘 연구인력을 수시로 확보하고, 개발환경을 개선하며, 지속적인 연구개발 투자를 통해 연구개발이 중심이 되는 회사로 성장하고자 합니다.