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Plasma Doping System, APIS
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(주)에이피티씨반도체 공정장비 제조, 하이드리브시스템, 챔버 시스템 제품 정보제공
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제조사
(주)에이피티씨[바로가기]
브랜드
-
SKU
29450
제품명
Plasma Doping System, APIS
모델명
사이즈
-
중량
-
제품 상세 정보

APIS 300 Plasma Doping System은 진공상태의 Process Chamber 내부에 Dopant Gas를 Flow시키면서 Chamber 외부에서 RF Source Power를 인가시켜 Dopant Gas를 플라즈마 상태로 만들고 Chamber 내부에 놓여있는 웨이퍼에 Bias Power를 인가하여 이온화된 Dopant는 매우 균일하게 웨이퍼에 주입되어 고농도의 불순물 층이 형성되도록 하는 차세대 이온주입 장치이다.

(주)에이피티씨반도체 공정장비 제조, 하이드리브시스템, 챔버 시스템 제품 정보제공
APTC는 세계 수준의 반도체 가공 장비를 생산하기 위해 설립된 회사입니다. APTC는 플라즈마 관련 반도체 가공 장비의 공학과 기술에 초점을 맞추고 있습니다. 짧은 역사임에도 불구하고, APTC는 300mm 에칭 장비, 플라즈마 도핑 시스템 및 LED 에칭 장비를 포함하여 상당한 진전을 이루었습니다. 가공 장비를 필요로 하는 다학제적 분야를 고려하여, APTC는 모든 공학 분야를 통합하려는 목표를 가지고 있습니다. 에칭 장비부터 시작하여, APTC는 반도체 가공 장비 분야에서 전 세계적인 선두주자가 되기를 염원합니다. 반도체 가공 장비는 자연스럽게 재료 가공, 진공 기술, RF 공학 등과 관련된 산업에도 큰 영향을 미칠 것입니다.
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