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Plasma Etching System
모델명
MPI-6000/8000
시리즈
Semiconductor Equipment
자료
-
구매정보
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(주)엠아이반도체

Auto Decaper, Track System, Vacuum Valve 등 반도체 제조 장비 생산 업체

연락처
031-459-8088
이메일
mis@mis.ne.kr
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제조사
(주)엠아이반도체[바로가기]
브랜드
-
SKU
43681
제품명
Plasma Etching System
모델명
MPI-6000/8000
사이즈
-
중량
-
제품 상세 정보

Function & Features 
 

- Plasma를 이용한 반도체 불량 분석 장비 
- ICP(Inductively Coupled Plasma) type, CCP(Capacitively Coupled Plasma) type으로 나눔 
- Wafer(Silicon) 에칭, 반도체 MCP(Multi chip package)의 실리콘 다이(상층)을 에칭하여 정밀분석이 가능
- 실리콘 Layer, WBL, 다프(DAF) 에칭 가능
- 분석용도에 가장 적합한 공정조건 제공 
- 다량의 시료를 동시에 작업 진행할 수 있는 챔버 시스템 
- Technology
   > Ion density uniformity is below 2% on 6 inch substrate 
   > Active substrate temperature control(He backside cooling) 
   > Very high etch rate 
   > Recipe storage and data logging 
   > Z-axis motion control 
   > Higher Uniformity by Planar ICP antenna design 
   > Exactly same gas conductance by unique gas diffusion gun design

 

Specification(ICP type)

Item Description
Chamber 1 process chamber, 1 load lock chamber with standard wafer
magazines, Compact & Automatic load/lock system
Arm transfer Robot arm transfer module
Process module Planar type high density plasma source, Electrostatic wafer clamping
with He backside cooling
RF System Source 13.56MHz / 2.0 kW
Bias 13.56MHz / 600 W, Auto matching network
Vacuum control Auto pressure control with throttle valve
Gas channel Max. 6ch Gas delivery module with mass flow controller
Operation PC base control including Windows user interface for fully automatic
process control
Dimension 1,550(W) x 1,255(D) x 2,090(H) mm
Weight Approx. 120 kg (8 inch type)
(주)엠아이반도체
Auto Decaper, Track System, Vacuum Valve 등 반도체 제조 장비 생산 업체
당사가 개발한 MIS Auto Decaper는 패키지된 반도체 및 전자부품의 표면몰딩(EMC, Epoxy Molding compounds) 을 안전하면서도 효과적으로 제거해 주는 세계 최초의 자동화된 로봇장비로서, 지금까지의 주된 방식이었던 수작업과 기타 여러장비를 이용 한 디캡작업 (Decapsulation Work)을 대체할 수 있는 유일한 장비입니다.  당사는 또한 , 초소형 반도체의 디캡은 물론이고, 실리콘 칩에서의 부분 식각(Etching) 및 여러 층으로 구성된 칩의 layer를 선택적으로 안전하게 벗겨내는 Delaminating작업 (마이크로 미터 단위의 정밀도를 가짐) 등이 가능한 세계최초의 식각장비 Deprocessor (Auto Wet Station장비)를 출시하였습니다.  이를 위하여 2005년 12월 한국과학기술연구원과 공동 기술실시계약을 체결하여 연구 개발을 추진하였으며, 삼성전자에 전략 과제물로 선정되어 2007년 2월에 MIS Auto-Deprocessor (Auto Wet Station)를 개발 완료하여 납품을 하였습니다.  개발 완료 후 한국 산업은행에서 기술성 및 사업성을 인정하여 자본출자를 받아 안정적 으로 사업에 총력을 기울이고 있습니다.  ㈜엠아이반도체는 지금까지 여러 대의 장비와 위험한 수작업이 동원되어 행해져 왔던 반도체 식각 작업을 한 대의 자동화된 로봇장비로 대체하여 수행할 수 있도록 함은 물론 보다 신속하고 정밀한 작업 성능을 갖춘 장비의 개발에 초점을 맞추어 왔습니다.  이러한 노력의 결과로 장비 사용자 분들께 작업의 안전성 확보는 물론이고, 작업효율의 향상과 생산 비용 COST의 획기적인 절감이라는 효과들을 가져다 줄 수 있게 되었습니다.  당사는 앞으로도 끊임없는 연구개발을 지속하여 나노가공장비 및 디스플레이 분야에서도 최고의 성능을 갖춘 보다 새롭고 혁신적인 제품의 개발에 꾸준한 노력을 기울일 것이며 고객의 만족을 위해 최선을 다할 것입니다. 
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