CARBOZEN™-H(Hybrid PVD)는 Linear Ion Source, UBM Sputter의 조합을 통하여 고객의 다양한 요구를 만족시키는 코팅 장비입니다.
Application
챔버 크기 | Ø600×H600, Ø700×H900, Ø800×H1000, Ø1000×H1000, Ø1000×H1200, Custom-made |
지그 시스템 | 2 fold or 3 fold |
작동 가스 | Mass flow control system Ar · O2 · C2H2 · CH4 · C6H6 · etc |
플라즈마 소스 | Linear Ion Source, UBM Sputter |
초기 진공도 | ~10-6Torr |
바이어스 전원 | Pulsed DC |
히터 | Max 250℃ [Optional 450℃] |
장치 운전 | 전자동/반자동 |
응용분야